晶圓代工領域先進製程之爭，目前僅剩下台積電、三星電子以及英特爾有能力競爭，然而，近期外媒卻爆料，三星的5奈米製程良率竟遠遠低於合格的95%，而且是位於華城的V1廠，於2020年2月啟動生產、為全球首座在7奈米以下製程採用極紫外光(EUV)曝光機的半導體工廠，為全球首座將極紫外光(EUV)微影設備的生產線。
據《BusinessKorea》報導，晶圓代工廠製程良率為取得訂單的關鍵，一般來說良率達到95%才算合格，但傳出三星V1廠良率竟達不到50%。市調機構TrendForce指出，今年第一季以台積電56%市占率高居第一，三星雖排名第二，但僅有18%的市占率，多年以來，三星都無法超越20%門檻。
據韓國民族日報先前報導，有「韓國半導體先生」稱號的專家陳大濟（Dae-Je Chin）認為，，台積電與三星在本質上就有差異，台積電專攻代工項目，三星則擁有自產半導體產品的能力，這會與客戶產生競爭關係，除非三星願意將相關業務拆成獨立公司，或許有機會達到台積電的一半規模，但不太可能直接超越台積電。
不過，三星於2019年4月24日公布「半導體願景2030」，打算在2030年成為全球系統半導體龍頭，預計砸1160億美元發展該公司的晶圓代工業務，打算利用EUV技術超越台積電，近期也宣布順利在3奈米製程採用環繞閘極技術（Gate-All-AroundGAA）流片，預計在2022年量產。
不過，台積電也預計在今年下半年推出5奈米製程強效版，台積電2021技術論壇上，台積電總裁魏哲家宣布，4奈米製程預計至2021年第三季開始試產，較先前規畫早一季時間，3奈米製程預計於2022年下半年量產。
文章來源：businesskorea
（ 中時新聞網 呂承哲）
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July 05, 2021 at 05:46PM
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